[发明专利]感光性层叠体和其制造方法在审
申请号: | 201910342786.8 | 申请日: | 2019-04-26 |
公开(公告)号: | CN110426917A | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
发明(设计)人: | 井上浩辅 | 申请(专利权)人: | 旭化成株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/11 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 感光性层叠体和其制造方法。[课题]本发明的目的在于提供不易受到异物影响的感光性层叠体。[解决方案]感光性层叠体的制造方法包括:第1层叠体形成工序,在基板上层叠感光性树脂层叠体,形成基板与感光性树脂层叠体的层叠体即第1层叠体,感光性树脂层叠体具备支撑薄膜(1)和形成于前述支撑薄膜(1)上的包含感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层(6);曝光工序,从前述第1层叠体剥离支撑薄膜(1),将剥离了支撑薄膜(1)的感光性树脂组合物层(6)进行曝光,形成具有曝光部和未曝光部的感光性树脂组合物层;和,第2层叠体形成工序,在前述具有曝光部和未曝光部的感光性树脂组合物层(6)上层叠覆盖薄膜(2),形成第2层叠体。 | ||
搜索关键词: | 层叠体 感光性树脂组合物层 感光性层叠体 支撑薄膜 感光性树脂层叠体 未曝光部 形成工序 曝光部 剥离 感光性树脂组合物 制造 覆盖薄膜 基板上层 曝光工序 异物 基板 上层 曝光 | ||
【主权项】:
1.一种感光性层叠体的制造方法,其包括如下工序:第1层叠体形成工序,在基板上层叠感光性树脂层叠体,形成所述基板与所述感光性树脂层叠体的层叠体即第1层叠体,所述感光性树脂层叠体具备支撑薄膜和形成于所述支撑薄膜上的包含感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层;曝光工序,从所述第1层叠体剥离所述支撑薄膜,将剥离了所述支撑薄膜的感光性树脂组合物层进行曝光,形成具有曝光部和未曝光部的感光性树脂组合物层;和,第2层叠体形成工序,在所述具有曝光部和未曝光部的感光性树脂组合物层上层叠覆盖薄膜,形成第2层叠体。
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