[发明专利]一种透过率测量准确性标定方法在审
| 申请号： | 201910338867.0 | 申请日： | 2019-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN110031190A | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 刘卫静;廖志杰;何毅;林妩媚;邢廷文 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种透过率测量准确性标定方法，该方法用于光学元件透过率测量装置的透过率测量准确性标定中。根据光学元件基片透过率稳定的特点，测量光学元件单片及多片组合的透过率，通过比较多个基片的透过率测量值和单个基片测量结果计算得到多个基片透过率计算值，得到透过率测量的准确性。该标定方法简单，标定准确性高。 | ||
| 搜索关键词： | 透过率测量 标定 透过率 测量光学元件 光学元件基片 单个基片 多片组合 光学元件 单片 | ||
【主权项】：
1.一种透过率测量准确性标定方法，其特征在于：该方法利用光学元件基片透过率稳定的特点，使用待标定的透过率测量装置测量单个光学元件基片及多个基片组合的透过率，通过比较多个基片的透过率测量值和单个基片测量结果计算得到多个基片透过率计算值，得到透过率测量的准确性。
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