[发明专利]一种窄分布大粒度四氧化三钴制备方法有效

专利信息
申请号: 201910330709.0 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN110342587B 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 赵宗明;汤玲花;谭玉虎;李俊杰;孙戈;刘柏年;陈晓闯 申请(专利权)人: 金川集团股份有限公司;兰州金川新材料科技股份有限公司
主分类号: C01G51/04 分类号: C01G51/04
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心代理有限公司 62100 代理人: 陈醒
地址: 737103*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明属于化工技术领域,涉及一种窄分布大粒度四氧化三钴的制备方法。其包括溶液配制、合成反应和过滤洗涤干燥步骤。采用本发明方法制备出的窄分布大粒度四氧化三钴产品粒度分布较好,产品形貌改善,球形度较好,生产效率高。
搜索关键词: 一种 分布 粒度 氧化 制备 方法
【主权项】:
1.一种窄分布大粒度四氧化三钴的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:以钴盐为原料,配制钴浓度110‑115g/L的钴溶液为A溶液,配制浓度为220‑250g/L的氢氧化钠溶液,向所述中氢氧化钠溶液加入其体积0.04‑0.06倍、浓度180g/L的氨水溶液为B溶液;水合联氨为C溶液;母釜加入1m3热纯水作为合成缓冲液,加入5‑8L C溶液,温度控制在74‑76℃搅拌, A溶液以300±30L/h流量加入母釜,同时加入B溶液,控制PH=7.7‑7.9,稳定B溶液流量,合成10h检测粒度分布,D50达到14‑16um,母釜分别向第一合成釜和第二合成釜内移入母釜总料浆体积的1/3的料浆,A溶液以300±30L/h流量分别加入母釜、第一合成釜和第二合成釜,同时分别加入B溶液,控制PH=7.7‑7.9,稳定B溶液流量,母釜、第一合成釜和第二合成釜合成18‑20小时检测粒度,D50达到18‑19um,将母釜、第一合成釜和第二合成釜浆料输送至浆料均质釜混合;将均质釜中物料进行80‑100℃去离子水离心洗涤、100‑120℃下干燥、回转窑750‑800℃煅烧得到窄分布大粒度四氧化三钴产品。
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