[发明专利]一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统有效
| 申请号： | 201910328302.4 | 申请日： | 2019-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN110132852B | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 王春华;刘刚;李力;张亚丽;赵静静;黄宁新 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | G01N21/21 | 分类号： | G01N21/21;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海宛林专利代理事务所(普通合伙) 31361 | 代理人： | 徐静杰 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统，包括：光源、透镜、第一偏振片、第一四分之一波片、消偏振分光棱镜、第一10倍物镜、目标物、第二10倍物镜、第二四分之一波片、第二偏振片、第一成像透镜、第一CMOS相机、第三四分之一波片、第三偏振片、第二成像透镜，第二CMOS相机和计算机；本发明的一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统，将这两种方式结合起来，通过一次实验可以同时得到目标物前向和后向Mueller矩阵，相比反射式偏振显微成像或透射式偏振显微成像可以更加全面的反映目标物的微观结构信息。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透射 反射 mueller 矩阵 偏振 显微 成像 系统 | ||
【主权项】：
1.一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统，其特征在于，包括：光源、透镜、第一偏振片、第一四分之一波片、消偏振分光棱镜、第一10倍物镜、目标物、第二10倍物镜、第二四分之一波片、第二偏振片、第一成像透镜、第一CMOS相机、第三四分之一波片、第三偏振片、第二成像透镜，第二CMOS相机和计算机；其中，所述光源产生的光束通过所述透镜产生准直的光束，所述准直的光束依次通过所述第一偏振片和所述第一四分之一波片构成第一偏振态发生模块，然后经过所述消偏振分光棱镜对光束进行分束，经过所述消偏振分光棱镜的透射光经过第一10倍物镜后聚焦到所述目标物上分为两束光，第一束为目标物透射光，先经过第二10倍物镜变成平行光，再经过第二四分之一波片和第二偏振片构成的第二偏振态分析模块后，通过第一成像透镜在第一CMOS相机上成像；第二束为目标物反射光，所述目标物反射光经过第一10倍物镜后变成平行光，再经过由第三四分之一波片和第三偏振片构成的第三偏振态分析模块后，通过第二成像透镜在第二CMOS相机上成像，第二偏振态分析模块和第三偏振态分析模块操作同步，最终由所述计算机计算、处理获得的透射反射偏振图。
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