[发明专利]一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的装置及方法在审
| 申请号： | 201910328174.3 | 申请日： | 2019-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN109867441A | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;张冲;刘文瑞;李艳 | 申请（专利权）人： | 蚌埠中光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C3/093 | 分类号： | C03C3/093;C03C3/091;C03B18/20;C03B25/08 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人： | 杨晋弘 |
| 地址： | 233000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种浮法制备TFT‑LCD玻璃基板的装置及方法，其特征在于：在成型和退火工段间增加二氧化硫通气步骤，包括以下步骤：1.选用如下重量份数比的玻璃配合料：SiO2 58～63%、B2O3 8～11%、Al2O3 14～18%、CaO 3～8%、MgO 0～4%、SnO 0~1%、ZnO 0～10%，将玻璃配合料投入窑炉进行熔制成玻璃液，玻璃液随后进入锡槽成型成玻璃带；2.通过一组二氧化硫通气装置对玻璃带的锡面和空气面吹二氧化硫气体，随后玻璃带进入退火窑退火。本发明优点：1.设备简单、便于生产操作；2.可有效去除Na+、K+等碱金属离子，同时又有效降低了TFT‑LCD玻璃基板富锡层的深度；3.减少后面面研磨对富锡层的研磨量，提高生成效率。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃带 玻璃配合料 玻璃液 富锡层 二氧化硫 退火 二氧化硫气体 碱金属离子 重量份数比 生产操作 通气步骤 通气装置 退火工段 锡槽成型 研磨 空气面 退火窑 研磨量 基板 锡面 窑炉 去除 成型 | ||
【主权项】：
1.一种浮法制备TFT‑LCD玻璃基板的装置，包括窑炉、锡槽、拉边机、退火窑，其特征在于：在锡槽与退火窑之间安装一组二氧化硫通气装置，所述二氧化硫通气装置由TFT‑LCD玻璃带空气面金属罩和锡面金属罩和一组二氧化硫吹起管道组成。
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