[发明专利]一种纳米结构陶瓷涂层及其原位制备方法与应用在审
| 申请号： | 201910298372.X | 申请日： | 2019-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN109972108A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 肖舒;石科军;周池楼;吴昊;陈国华;童煜凯;郑益然 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/32;C23C14/48;C23C14/18;C23C14/58;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 何淑珍;江裕强 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米结构陶瓷涂层及其原位制备方法与应用，所述制备方法包括以下步骤：1.对基体进行预处理，然后通过PVD在真空室中通入反应性气体，在基体表面形成陶瓷涂层；2.通过离子注入在陶瓷涂层表面均匀地向陶瓷涂层中注入金属元素，得到金属离子注入层，所述金属元素与陶瓷涂层中金属元素中的主要成分相同，并通过退火形成氮化物或氧化物，原位生成所述纳米结构陶瓷涂层。该技术可操作性强、可控性好，可以通过控制离子注入层的厚度控制纳米结构的形状，并控制其疏水性能，技术可实现性强，适用于Zn等金属薄膜在氧化或者氮化过程中出现体积收缩的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米结构陶瓷 金属元素 陶瓷涂层 原位制备 预处理 退火 陶瓷涂层表面 反应性气体 离子注入层 氮化 厚度控制 基体表面 金属薄膜 金属离子 纳米结构 疏水性能 体积收缩 原位生成 氮化物 可控性 真空室 注入层 氧化物 制备 离子 应用 | ||
【主权项】：
1.一种纳米结构陶瓷涂层的原位制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）对基体（1）进行预处理，然后通过PVD在真空室中通入反应性气体，在基体（1）表面形成陶瓷涂层（2）；（2）通过离子注入在陶瓷涂层（2）表面均匀地向陶瓷涂层（2）中注入金属元素，得到金属离子注入层（3），所述金属元素与陶瓷涂层（2）中金属元素中的主要成分相同，并通过退火形成氮化物或氧化物，原位生成所述纳米结构陶瓷涂层（4）。
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