[发明专利]集成电路布图方法在审
| 申请号: | 201910281001.0 | 申请日: | 2019-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN110858266A | 公开(公告)日: | 2020-03-03 |
| 发明(设计)人: | 张啟文;管瑞丰 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392;G06F30/398 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 调整集成电路设计布图方法包含于第一技术节点,接收第一集成电路的第一集成电路设计布图,依据设计规则,从第一栅极布图图案取得第二栅极布图图案,基于第一、第二栅极布图图案,决定第一集成电路设计布图在第一方向上的变化因子,以及沿第一方向,使用变化因子调整第一互连布图图案以决定第二互连布图图案。第一集成电路设计布图包含第一栅极布图图案,第一互连布图图案,可缩小区域,与不可缩小区域。设计规则与第二技术节点有关。每个变化因子对应至可缩小与不可缩小区域中的一个。第二互连布图图案连接至第二栅极布图图案。 | ||
| 搜索关键词: | 集成电路 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910281001.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。





