[发明专利]方形螺旋硅漂移探测器及其制备方法在审
| 申请号: | 201910255417.5 | 申请日: | 2019-04-01 |
| 公开(公告)号: | CN110350044A | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
| 发明(设计)人: | 李正;唐立鹏 | 申请(专利权)人: | 湖南正芯微电子探测器有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/115;H01L31/18 |
| 代理公司: | 长沙新裕知识产权代理有限公司 43210 | 代理人: | 周跃仁 |
| 地址: | 411000 湖南省长沙市*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种方形螺旋硅漂移探测器及其制备方法,包括正面设有圆形的n+收集阳极、方形螺旋阴极和正面保护环的基片,方形螺旋阴极环绕n+收集阳极分布,且方形螺旋阴极的宽度由内向外逐渐变宽,正面保护环环绕螺旋阴极分布;基片反面设有反面电极、入射窗口和反面保护环,入射窗口和反面电极紧密相连且均位于反面保护环内,反面电极极性为阴极。先依据方形螺旋硅漂移探测器的结构设计制备掩膜板,依次经过匀胶、烘干、对准相应掩膜板、曝光、显影、检查、后烘,利用光刻胶覆盖无需刻蚀部位,并进行刻蚀,然后注入相应离子,制得N+收集阳极、方形螺旋阴极、反面保护环、入射窗口、正面保护环和反面电极,最后对电极进行镀铝。 | ||
| 搜索关键词: | 方形螺旋 阴极 反面电极 硅漂移探测器 阳极 入射窗口 正面保护 制备 掩膜板 环绕 基片反面 紧密相连 刻蚀部位 螺旋阴极 由内向外 逐渐变宽 对电极 光刻胶 烘干 镀铝 后烘 刻蚀 显影 匀胶 离子 对准 曝光 覆盖 检查 | ||
【主权项】:
1.方形螺旋硅漂移探测器,其特征在于,包括基片(9),基片(9)正面设有圆形的n+收集阳极(5)、方形螺旋阴极(6)和形状为圆角矩形的正面保护环(10),方形螺旋阴极(6)环绕n+收集阳极(5)分布,且方形螺旋阴极(6)的宽度由内向外逐渐变宽,正面保护环(10)环绕螺旋阴极(6)分布;基片(9)反面设有反面电极、入射窗口(8)和形状为圆角矩形的反面保护环(7),入射窗口(8)和反面电极紧密相连且均位于反面保护环(7)内,且反面电极极性为阴极。
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