[发明专利]一种低触发高维持可控硅静电防护器件在审

专利信息
申请号: 201910246694.X 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN109994466A 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 汪洋;芦俊;骆生辉;董鹏;金湘亮 申请(专利权)人: 湖南静芯微电子技术有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙) 43108 代理人: 颜昌伟
地址: 410199 湖南省长沙市经济*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种低触发高维持可控硅静电防护器件,包括P型衬底;P型衬底上设有N型深阱;N型深阱中从左至右设有P阱和N阱;P阱中从左至右设有第一P+注入区、第一N+注入区;P阱和N阱之间设有第二N+注入区;N阱中从左至右设有第三N+注入区和第二P+注入区;第二N+注入区与第三N+注入区之间用导线串联一个电阻和N型MOS管,N型MOS管的衬底接地,N型MOS管的栅接ESD侦测电路。本发明通过外接电路,为寄生PNP三极管的基区提供触发电流,使得寄生PNP更易开启,则SCR泄放路径也更易开启;另外,re由侦测电路控制,不会导致器件正常工作时被误触发。
搜索关键词: 注入区 衬底 可控硅静电防护器件 侦测电路 寄生PNP 触发 触发电流 导线串联 外接电路 接地 三极管 误触发 电阻 基区 泄放
【主权项】:
1.一种低触发高维持可控硅静电防护器件,其特征在于:包括P型衬底;所述P型衬底上设有N型深阱;N型深阱中从左至右设有P阱和N阱;P阱中从左至右设有第一P+注入区、第一N+注入区,第一P+注入区左侧设有第一场氧隔离区;P阱和N阱之间设有第二N+注入区,第二N+注入区左侧设有第二场氧隔离区,第二N+注入区右侧设有第三场氧隔离区;N阱中从左至右设有第三N+注入区和第二P+注入区,第二P+注入区右侧设有第四场氧隔离区;P阱之上,第一N+注入区、第二N+注入区之间设有多晶硅栅,多晶硅栅与第一P+注入区、第一N+注入区相连作为阴极;第三N+注入区和第二P+注入区用导线相连作为阳极;第二N+注入区与第三N+注入区之间用导线串联一个电阻和N型MOS管,N型MOS管的衬底接地,N型MOS管的栅接ESD侦测电路。
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