[发明专利]化合物、有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法及图案形成方法有效
| 申请号： | 201910242725.4 | 申请日： | 2019-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN110317125B | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | 橘诚一郎;渡边武;新井田惠介;长井洋子;泽村昂志;荻原勤 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C07C35/38 | 分类号： | C07C35/38;C07C29/42;C07C69/16;C07C67/08;C07D335/16;C07C43/205;C07C41/18;G03F7/004;G03F7/11;G03F7/115 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种能够形成有机下层膜的化合物，该有机下层膜在空气中或非活性气体中的成膜条件下进行固化而不产生副产物，不仅形成于基板的图案的嵌入和平坦化特性优异，而且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好。所述化合物在分子内具有2个以上下述通式(1‑1)所示的部分结构。[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 化合物 有机 形成 组合 半导体 装置 制造 用基板 方法 图案 | ||
【主权项】：
1.一种化合物，其在分子内具有2个以上下述通式(1‑1)所示的部分结构，[化学式1]![]()
式中，Ar各自独立地表示可具有取代基的芳香环或可具有取代基的含有1个以上氮原子的芳香环，2个Ar可彼此连接而形成环结构；虚线表示与有机基团的结合键；B为阴离子性离去基团，其可通过热、酸中的任意一种或两种的作用生成反应性阳离子。
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