[发明专利]一种沿地层走向光滑约束的反射波波形反演方法有效
| 申请号: | 201910237792.7 | 申请日: | 2019-03-27 | 
| 公开(公告)号: | CN109975869B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 | 
| 发明(设计)人: | 姚刚;吴迪 | 申请(专利权)人: | 中国石油大学(北京) | 
| 主分类号: | G01V1/28 | 分类号: | G01V1/28 | 
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 谢斌 | 
| 地址: | 102249*** | 国省代码: | 北京;11 | 
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| 摘要: | 本发明公开了一种沿地层走向光滑约束的反射波波形反演方法,包括以下步骤:选取初始背景速度模型;设置反射轴模型为零;计算临时反射轴模型;沿地层走向的光滑约束的更新背景速度;判断是否终止反演。本发明公开的沿地层走向光滑约束的反射波波形反演方法,针对目前无约束的反射波波形反演反演过程不稳定等问题,根据地质规律引入沿地层走向的光滑约束,利用反射波波形反演的临时反射轴图像识别地层界面,并利用地层界面得到了地层的走向,及通过解各向异性扩散方程来实现沿地层走向的光滑约束等手段来提高反演的稳定性,消除了柱状和球状的假异常,从而提高反演的准确性。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 地层 走向 光滑 约束 反射 波形 反演 方法 | ||
【主权项】:
                1.一种沿地层走向光滑约束的反射波波形反演方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤A:选取初始背景速度模型vb,设置终止误差∈,最大迭代次数k,设立最小化目标函数φ的表达式为:
式1中的uδ表示预测的反射波波场,R表示用于从反射波波场中提取检波点的记录的检波器算子,d表示实际观测到的记录,vb表示背景速度,mδ表示反射轴模型;步骤B:设置反射轴模型mδ=0;步骤C:计算临时反射轴模型mδ;步骤D:沿地层走向光滑约束的更新背景速度vb;步骤E:判断是否终止反演:若完成步骤D后,目标函数的值仍然大于∈并且迭代次数小于k,重复步骤B至步骤D,直至满足终止条件。
            
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