[发明专利]微阵列、成像系统以及微阵列的成像方法在审
| 申请号： | 201910232025.7 | 申请日： | 2019-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN110361366A | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | 锺曜光;洪瑞鸿;李诏熙 | 申请（专利权）人： | 台湾生捷科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 罗英;臧建明 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种微阵列、成像系统以及微阵列的成像方法，微阵列包括多个检测区以及至少一标记。所述多个检测区是阵列排列的。所述至少一标记位于所述多个检测区之间或在所述多个检测区旁。所述至少一标记经配置以进行图像聚焦、图像定位以及图像拼接中至少一个。所述至少一标记包括分布在一个区域中的多个格点，所述区域包括阵列排列的多个区，所述多个格点中的每一个位于所述多个区中的一个中。所述多个格点的数量小于所述多个区的数量，以及所述多个格点形成二维图案。 | ||
| 搜索关键词： | 微阵列 检测区 格点 成像系统 阵列排列 成像 二维图案 图像定位 图像聚焦 图像拼接 配置 | ||
【主权项】：
1.一种微阵列，包括：多个检测区，所述多个检测区阵列排列；以及至少一标记，位于所述多个检测区之间或在所述多个检测区旁，所述至少一标记经配置以进行图像聚焦、图像定位以及图像拼接中至少一个，其中所述至少一标记包括分布在一个区域中的多个格点，所述区域包括阵列排列的多个区，所述多个格点中的每一个位于所述多个区中的一个中，所述多个格点的数量小于所述多个区的数量，以及所述多个格点形成二维图案。
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