[发明专利]直写光刻曝光设备定位运动平台正交性调试装置及方法在审
| 申请号： | 201910229390.2 | 申请日： | 2019-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN109856926A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 李辉;项宗齐;卫攻文 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及直写光刻曝光设备定位运动平台正交性调试装置及方法，属于直写光刻曝光技术领域。该调试装置包括支撑底座、精密定位运动平台、调试机构、支撑架和CCD图像采集系统。精密定位运动平台包括Y轴、X轴和Z轴；Z轴的顶部安装有真空吸盘；真空吸盘上方吸附带有Mark点的高精度标定板。调试机构包括安装在支撑底座上可升降的移动滑台、调试连接底板、移动滑轨、与移动滑轨滑动配合的移动滑轨运动座以及固定在移动滑轨运动座上的千分表。本发明先采用CCD图像采集系统对X轴和Y轴的正交性进行测量，再采用调试机构调试X轴和Y轴的正交性。本发明能够提高直写光刻曝光设备精密定位运动平台正交性调试的效率和准确度，降低调试成本。 | ||
| 搜索关键词： | 调试 正交性 移动滑轨 直写 光刻曝光设备 调试装置 精密定位 运动平台 定位运动 真空吸盘 支撑底座 运动座 高精度标定板 顶部安装 光刻曝光 滑动配合 连接底板 移动滑台 准确度 可升降 千分表 支撑架 吸附 测量 | ||
【主权项】：
1.直写光刻曝光设备定位运动平台正交性调试装置，其特征在于：包括支撑底座、安装在支撑底座上的精密定位运动平台、安装在支撑底座上的调试机构、安装在支撑底座上的支撑架和安装在支撑架上的CCD图像采集系统；所述精密定位运动平台包括从下向上依次设置的Y轴、X轴和Z轴；所述Z轴的顶部安装有真空吸盘，真空吸盘上吸附带有Mark点的高精度标定板；所述调试机构包括安装在支撑底座上可升降的移动滑台、安装在移动滑台顶部的调试连接底板、安装在调试连接底板上的移动滑轨、与移动滑轨滑动配合的移动滑轨运动座以及固定在移动滑轨运动座上的千分表。
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