[发明专利]非晶Ga2有效

专利信息
申请号: 201910192170.7 申请日: 2019-03-14
公开(公告)号: CN111697090B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 隋妍心;霍文星;王涛;韩祖银;朱锐;梅增霞;梁会力;杜小龙 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/18
代理公司: 北京慧诚智道知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11539 代理人: 李楠
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种非晶Ga2O3光电探测器及其制备方法和性能提升方法,所述非晶Ga2O3光电探测器包括:衬底、沉积于所述衬底表面的掺氢非晶Ga2O3薄膜有源层和设置于所述掺氢非晶Ga2O3薄膜有源层上的电极;其中,所述掺氢非晶Ga2O3薄膜有源层为在20℃~400℃含氢气氛下,采用真空沉积法制备的非晶薄膜;所述真空沉积法包括磁控溅射、脉冲激光沉积、电子束沉积、化学气相沉积中的任一方法。
搜索关键词: ga base sub
【主权项】:
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