[发明专利]直下式背光源及制备方法、背光模组以及显示装置在审
| 申请号： | 201910183390.3 | 申请日： | 2019-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN109709722A | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 张冰;耿霄霖;韩波;高亮;高露;汤海;秦建伟 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 230012 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了直下式背光源及制备方法、背光模组以及显示装置。该直下式背光源包括：基板；多个微发光二极管，所述多个微发光二极管位于所述基板上且呈阵列排布；以及反射结构，所述反射结构位于多个所述微发光二极管之间的间隙处，所述反射结构包括反射金属层，以及密封所述反射金属层的介质层。该直下式背光源具有反射率高、发光效率高、功耗低、稳定性好等优点的至少之一。 | ||
| 搜索关键词： | 直下式背光源 微发光二极管 反射结构 反射金属层 背光模组 显示装置 基板 制备 发光效率 阵列排布 反射率 间隙处 介质层 功耗 密封 | ||
【主权项】：
1.一种用于显示装置的直下式背光源，其特征在于，包括：基板；多个微发光二极管，所述多个微发光二极管位于所述基板上且呈阵列排布；以及反射结构，所述反射结构位于多个所述微发光二极管之间的间隙处，所述反射结构包括反射金属层，以及密封所述反射金属层的介质层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910183390.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：显示装置
- 下一篇：导光板、背光模组和显示面板
