[发明专利]阵列基板及其制作方法、和显示装置

摘要

本发明提供一种阵列基板及其制作方法、和显示装置，其中，所述方法包括：在衬底基板上形成金属层；在金属层上涂覆光刻胶，利用掩膜板对光刻胶进行曝光，使得作用于第一光刻胶部分的光量小于作用于第二光刻胶部分的光量，形成位于走线区域的第一光刻胶保留部分和位于显示区域的第二光刻胶保留部分；刻蚀掉所述金属层中对应光刻胶去除部分的金属部分后，剥离所述第一光刻胶保留部分和所述第二光刻胶保留部分，得到位于走线区域的第一金属图案和位于显示区域的第二金属图案，所述第一金属图案的周期尺寸小于所述第二金属图案的周期尺寸。本发明提供的阵列基板及其制作方法、和显示装置，能够便于显示装置的窄边框化的发展。

主权项

1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成金属层；在所述金属层上涂覆光刻胶，利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光，使得作用于第一光刻胶部分的光量小于作用于第二光刻胶部分的光量，形成位于走线区域的第一光刻胶保留部分和位于显示区域的第二光刻胶保留部分，所述第一光刻胶保留部分的宽度小于所述第二光刻胶保留部分的宽度，所述第一光刻胶部分位于所述走线区域，所述第二光刻胶部分位于所述显示区域；刻蚀掉所述金属层中对应光刻胶去除部分的金属部分后，剥离所述第一光刻胶保留部分和所述第二光刻胶保留部分，得到位于走线区域的第一金属图案和位于显示区域的第二金属图案，所述第一金属图案的周期尺寸小于所述第二金属图案的周期尺寸，其中，所述光刻胶去除部分为所述光刻胶中除所述第一光刻胶保留部分和所述第二光刻胶保留部分之外的光刻胶部分。