[发明专利]一种光控集成片上电感在审

专利信息
申请号: 201910178381.5 申请日: 2019-03-11
公开(公告)号: CN109786080A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 唐莹;王玉龙;韦一;彭应全;柏沁园;杨媚 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: H01F27/28 分类号: H01F27/28;H01F27/32;H01F27/34;H01F29/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 专利提出了一种光控集成片上电感,属于微电子器件技术领域。其光控电感结构包括光磁材料,金属导线,二氧化硅隔离层以及硅基衬底。光磁材料线圈层为光控片上电感的主体部分,依附于衬底上,光磁材料感应光照变化,通过自身磁导率的变化来引起线圈整体磁导率发生改变,从而改变电感值。在电感线圈与衬底之间添加了一层二氧化硅绝缘层,用来隔绝衬底的涡流损耗,另外金属导线采用高导电性能材料,减少金属本身的欧姆损耗,这对电感的品质因数的提高有着很大的帮助,同时使电路的整体性能得到了提高。
搜索关键词: 电感 光磁材料 衬底 光控 金属导线 磁导率 集成片 二氧化硅隔离层 二氧化硅绝缘层 高导电性能 微电子器件 电感结构 电感线圈 光照变化 欧姆损耗 品质因数 涡流损耗 线圈整体 光控片 硅基衬 线圈层 依附 电路 金属 帮助
【主权项】:
1.一种光控集成片上电感,其特征在于:采用光磁材料复合膜作为电感线圈材料:所述光磁材料复合膜由光磁材料层和金属导电层依次叠加组成,光控电感依附于衬底之上,在衬底与线圈之间添加绝缘层进行隔离。
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