[发明专利]定影构件及其制造方法、定影装置、及图像形成装置在审
| 申请号： | 201910176209.6 | 申请日： | 2019-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN110727190A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 星尾拓郎;藤井亮介;大森健司;木村润 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/20 | 分类号： | G03G15/20 |
| 代理公司： | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种抑制浓度不均的产生的定影构件及其制造方法、定影装置及图像形成装置。本发明的定影构件包括：基材(110A)；弹性层(110B)，设置于基材上；以及表面层(110C)，设置于弹性层上。所述表面层的宽度方向的微型橡胶硬度为85以上、89以下，宽度方向的滤波最大波纹度(Wcm)为0.1μm以上、4μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 定影构件 表面层 弹性层 基材 图像形成装置 定影装置 浓度不均 橡胶硬度 波纹度 滤波 制造 | ||
【主权项】：
1.一种定影构件，其特征在于包括：/n基材；/n弹性层，设置于所述基材上；以及/n表面层，设置于所述弹性层上，所述表面层的宽度方向的微型橡胶硬度为85以上、89以下，宽度方向的滤波最大波纹度Wcm为0.1μm以上、4μm以下。/n
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