[发明专利]带取向膜基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201910168183.0 申请日: 2019-03-06
公开(公告)号: CN110231737B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 谷池康司郎;弓波亮介 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;习冬梅
地址: 日本国大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种带取向膜基板的制造方法,该带取向膜基板在长期间使用中折射率各向异性的变化小,能够维持高折射率各向异性。带取向膜基板的制造方法具有:涂膜形成工序,在基板的表面涂布含有在主链具有偶氮苯基的第一高分子的取向膜组合物,形成涂膜;以及加热曝光工序,在60~80℃下加热上述基板并对上述涂膜照射光,优选在上述加热曝光工序中照射320~500nm的波长区域的光。
搜索关键词: 取向 膜基板 制造 方法
【主权项】:
1.一种带取向膜基板的制造方法,其特征在于,具有:涂膜形成工序,在基板的表面涂布含有在主链具有偶氮苯基的第一高分子的取向膜组合物,形成涂膜;以及加热曝光工序,在60~80℃下加热所述基板并对所述涂膜照射光。
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