[发明专利]一种改善TiAl合金性熔体流动稳定的漏斗及浇注方法在审
| 申请号： | 201910159428.3 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN109732044A | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | 胡海涛;张继;朱春雷;李胜;王红卫;张熹雯 | 申请（专利权）人： | 钢铁研究总院;北京钢研高纳科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B22C9/08 | 分类号： | B22C9/08;B22D27/04 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 张德才 |
| 地址： | 100000 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种改善TiAl合金性熔体流动稳定的漏斗及浇注方法，涉及金属铸造技术领域，所述漏斗包括前壁和后壁，所述前壁与所述后壁之间具有一容纳腔室，所述容纳腔室底部具有一流道；所述前壁为一半球体的二分之一，所述后壁为一弧形壁，且所述弧形壁的顶部向外倾斜。本发明中的浇注方法，具有极大的推广价值，适用于改善水冷坩埚浇注其他Ti系合金铸件过程中熔体流动的稳定性，以减少铸件缺边、冷隔、气孔现象，提高铸造成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 浇注 熔体流动 后壁 前壁 漏斗 容纳腔室 弧形壁 合金 金属铸造技术 合金铸件 气孔现象 水冷坩埚 成品率 球体 缺边 铸件 铸造 | ||
【主权项】：
1.一种改善TiAl合金性熔体流动稳定的漏斗，其特征在于，所述漏斗包括前壁和后壁，所述前壁与所述后壁之间具有一容纳腔室，所述容纳腔室底部具有一流道；所述前壁为一半球体的二分之一，所述后壁为一弧形壁，且所述弧形壁的顶部向外倾斜。
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