[发明专利]半导体器件、发光器件和用于制造发光器件的方法在审

专利信息
申请号: 201910141121.0 申请日: 2019-02-26
公开(公告)号: CN110197862A 公开(公告)日: 2019-09-03
发明(设计)人: 鎌田良基;松井慎一;面家英树;三木久幸 申请(专利权)人: 丰田合成株式会社
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/56
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有;苏虹
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请涉及半导体器件、发光器件和用于制造发光器件的方法。提供了一种层间绝缘膜的开裂或剥离得到抑制的发光二极管。第一层间绝缘膜在DBR层、第一p电极和第一n电极上连续形成为膜。第一层间绝缘膜是通过交替地沉积SiO2层和TiO2层而形成的多层,并且层的数目为11。SiO2层由具有产生压缩应力的性质的材料形成。当根据第一实施方案的发光二极管暴露于高温时,第一层间绝缘膜中的TiO2层将其性质从产生压缩应力改变为产生拉伸应力。由TiO2层产生的拉伸应力和由SiO2层产生的压缩应力相互抵消。结果,第一层间绝缘膜的内应力得到缓和。
搜索关键词: 绝缘膜 发光器件 第一层 压缩应力 半导体器件 发光二极管 拉伸应力 材料形成 连续形成 沉积 多层 种层 制造 抵消 剥离 缓和 暴露 申请
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:蓝宝石衬底;形成在所述蓝宝石衬底上的III族氮化物半导体层;形成在所述III族氮化物半导体层之上或上方的第一电极;形成在所述第一电极上的层间绝缘膜;以及形成在所述层间绝缘膜上的第二电极,所述第二电极通过形成在所述层间绝缘膜中的孔连接所述第一电极,其中所述层间绝缘膜是通过交替地沉积由产生拉伸应力的材料制成的第一绝缘膜和由产生压缩应力的材料制成的第二绝缘膜而形成为三层或更多层的多层膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于丰田合成株式会社,未经丰田合成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910141121.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top