[发明专利]GaN HEMT毫米波可重构天线及其制备方法有效
申请号: | 201910131973.1 | 申请日: | 2019-02-22 |
公开(公告)号: | CN109713435B | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
发明(设计)人: | 胡南;谢文青;刘建睿;赵丽新;刘爽;袁昌勇 | 申请(专利权)人: | 北京星英联微波科技有限责任公司 |
主分类号: | H01Q1/36 | 分类号: | H01Q1/36;H01Q3/00;H01Q19/06 |
代理公司: | 石家庄轻拓知识产权代理事务所(普通合伙) 13128 | 代理人: | 王占华 |
地址: | 100084 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种GaN HEMT毫米波可重构天线及其制备方法,所述天线包括衬底,所述衬底上外延生长有AlN缓冲层,所述AlN缓冲层上生长有GaN层,所述GaN层的左右两侧设置有中间不相接触的AlGaN层,左右两侧的AlGaN层上设置有欧姆接触金属电极,所述欧姆接触金属电极的下表面与所述GaN层相接触,所述AlGaN层的上表面以及两个AlGaN层之间的GaN层的上表面设置有不规则周期结构的金属条,所述不规则周期结构的金属条形成啁啾布拉格光栅,左右两侧AlGaN层的上表面的所述布拉格光栅结构通过金属层连接到一起,形成整体的栅金属层。所述天线可重构,工作方式简单,且制作工艺简单。 | ||
搜索关键词: | gan hemt 毫米波 可重构 天线 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种GaN HEMT毫米波可重构天线,其特征在于:包括衬底(1),所述衬底(1)上外延生长有AlN缓冲层(2),所述AlN缓冲层(2)上生长有GaN层(3),所述GaN层(3)的左右两侧设置有中间不相接触的AlGaN层(4),左右两侧的AlGaN层(4)上设置有欧姆接触金属电极(5),所述欧姆接触金属电极(5)的下表面与所述GaN层(3)相接触,所述AlGaN层(4)的上表面以及两个AlGaN层(4)之间的GaN层(3)的上表面设置有不规则周期结构的金属条(6),所述不规则周期结构的金属条形成啁啾布拉格光栅,左右两侧AlGaN层(4)的上表面的所述布拉格光栅结构通过金属层连接到一起,形成整体的栅金属层(7);通过AlGaN层(4)和GaN层(3)之间的电压控制,控制AlGaN层自发压电极化产生的二维电子气浓度,使天线工作在四种状态:1)天线沿啁啾布拉格光栅向左、向右双向辐射;2)天线仅向左辐射;3)天线仅向右辐射;4)天线处于关闭状态。
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