[发明专利]一种带沉降主动分散装置的磁流变阻尼器活塞组件有效

专利信息
申请号: 201910116689.7 申请日: 2019-02-13
公开(公告)号: CN109723750B 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 张红辉;杨涛;廖昌荣;谢磊 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: F16F9/53 分类号: F16F9/53;F16F9/32;F16F9/34;F16F9/36
代理公司: 重庆缙云专利代理事务所(特殊普通合伙) 50237 代理人: 王翔
地址: 400044 *** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种带沉降主动分散装置的磁流变阻尼器活塞组件,包括工作缸、活塞杆和活塞组件;所述工作缸内装有磁流变液;所述活塞杆的上端穿入在所述工作缸的内部,其下端穿出工作缸的部分设置油封;所述活塞组件包括转子、定子、顶盖和底盖;所述转子的外圆周壁上设置有螺旋筋肋;所述转子松套于活塞杆上,并位于工作缸内部;所述定子外套于转子上,并位于工作缸内部;定子与转子之间形成阻尼间隙;所述顶盖套装在活塞杆上,并位于工作缸内;所述底盖位于工作缸内;本发明通过转子上的螺旋筋肋转动使磁流变液通过阻尼间隙在工作缸内做旋转流动和轴向流动,不仅实现了磁流变液沉降后的再分散,还有助于磁流变阻尼器正常运行时的能量再回收。
搜索关键词: 一种 沉降 主动 分散 装置 流变 阻尼 活塞 组件
【主权项】:
1.一种带沉降主动分散装置的磁流变阻尼器活塞组件,其特征在于:包括所述工作缸(1)、活塞杆(2)和活塞组件;所述工作缸(1)为圆筒状;所述工作缸(1)周向均布有若干个通槽I(101)和若干个通孔I(102),其中通槽I(101)位于所述工作缸(1)的内圆面,其位置记为所述工作缸(1)的平衡位置;所述工作缸(1)内装有磁流变液;所述活塞杆(2)为中空的圆柱体;所述活塞杆(2)上端的内壁加工有螺纹;所述活塞杆(2)上端的端面上开有若干个引线槽I(201);所述活塞杆(2)的上端穿入在所述工作缸(1)的内部,能够在所述工作缸(1)的内部做往复运动,其下端穿出工作缸(1)的部分设置油封;所述活塞组件包括转子(3)、定子(4)、顶盖(5)和底盖(6);所述转子(3)为中空圆柱体,其两端的端面中心设有圆环凸台(301);所述转子(3)两端的端面上嵌入有鼠笼(302);所述转子(3)的外圆周壁上设置有螺旋筋肋(303);所述转子(3)松套于所述活塞杆(2)上,并位于所述工作缸(1)内部;所述转子(3)能够在工作缸(1)内自由旋转;所述定子(4)包括外筒(401)和内筒(402);所述内筒(402)位于所述外筒(401)内部;所述内筒(402)与所述外筒(401)之间布置有若干个磁极(403);每一个磁极(403)上均绕制有绕组(404);所述定子(4)外套于所述转子(3)上,并位于所述工作缸(1)内部;所述定子(4)与所述转子(3)之间形成阻尼间隙(X);所述定子(4)的外筒(401)与所述工作缸(1)内壁之间具有间隙;所述顶盖(5)包括圆环I(501)和圆盘I(502);所述圆盘I(502)位于所述圆环I(501)内;所述圆盘I(502)中心为沉头孔I(5021);所述圆盘I(502)与所述圆环I(501)之间通过辐条I(503)连接;所述顶盖(5)套装在所述活塞杆(2)上,并位于所述工作缸(1)内,其中顶盖(5)的圆环I(501)与所述定子(4)的下端相接触;所述转子(3)下端的圆环凸台(301)插入所述顶盖(5)的沉头孔I(5021)台阶内;所述底盖(6)包括圆环II(601)和圆盘II(602);所述圆盘II(602)位于所述圆环II(601)内;所述圆盘II(602)中心为沉头孔II(6021);所述圆盘II(602)与所述圆环II(601)之间通过辐条II(603)连接;所述底盖(6)位于所述工作缸(1)内,其中底盖(6)的圆环II(601)与所述定子(4)的上端相接触;所述活塞杆(2)的上端插入在所述底盖(6)的沉头孔II(6021)台阶内,并通过螺钉(7)紧固;当对所述绕组(404)施加电激励时,所述定子(4)内形成旋转磁场,所述转子(3)的鼠笼(302)切割磁力线产生感生电流而受到磁力作用,带动转子(3)旋转。当所述转子(3)转动时,所述螺旋筋肋(303)带动阻尼间隙(X)中的磁流变液通过阻尼间隙(X)在工作缸(1)内做旋转流动和轴向流动,当所述活塞组件处于平衡位置时,通过阻尼间隙(X)的磁流变液经所述工作缸(1)的通槽I(101)和通孔I(102)流出,当所述活塞组件脱离平衡位置做上下往复运动时,通过阻尼间隙(X)的磁流变液经所述工作缸(1)的通孔I(102)流出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆大学,未经重庆大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910116689.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top