[发明专利]一种多晶硅清洗方法及清洗装置在审
| 申请号： | 201910098720.9 | 申请日： | 2019-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN109604238A | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 王伟;甘居富;游书华;彭中;王亚萍 | 申请（专利权）人： | 内蒙古通威高纯晶硅有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王学强;罗满 |
| 地址： | 014000 内蒙古自治区*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明公开一种多晶硅清洗方法，包括如下步骤：预清洗掉多晶硅表面附着沉积的杂质；用清洗剂清洗多晶硅；超声清洗去除掉清洗剂残留；脱水干燥。在采用清洗剂进行清洗前先对多晶硅进行预清洗，通过物理方式去除掉沉积在多晶硅表面而没有紧固黏附的杂质，然后再放入清洗剂中通过进行清洗，从而在保证清洗效果的同时减少清洗剂消耗量。本发明还公开了一种适用于上述清洗方法的多晶硅清洗装置。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶硅 清洗剂 清洗 多晶硅表面 清洗装置 预清洗 除掉 沉积 清洗剂残留 超声清洗 清洗效果 脱水干燥 物理方式 消耗量 放入 附着 紧固 黏附 保证 | ||
【主权项】：
1.一种多晶硅清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：预清洗掉多晶硅表面附着沉积的杂质；用清洗剂清洗多晶硅；超声清洗去除掉清洗剂残留；脱水干燥。
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