[发明专利]基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法有效

专利信息
申请号: 201910085585.4 申请日: 2019-01-29
公开(公告)号: CN109765232B 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 丁茂峦;彭湘洲;石巧平 申请(专利权)人: 北京和众视野科技有限公司
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84
代理公司: 北京智沃律师事务所 11620 代理人: 李笑丹
地址: 100070 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法。该方法是以倾斜视角做线扫描成像,即:1)取偏离反射光方向但又与之临近的散射光视角成像;2)把面阵器件作为线阵器件来使用;3)利用面阵成像器件不同位置像素行对应不同角度的散射光,提供多视角通道成像;4)利用面阵成像器件相邻几行像素成像的略微差异,产生相互间细节略有不同的具有微偏移位置关系的序列图,再通过超分辨算法合成,进而得到整个平整表面附着痕迹的高分辨率融合图像。所述方法相对于传统照相方法而言,由于其可减少背景并获取尽量强的信号,故图像的信噪比得到了明显提升,进而解决了传统照相方法带来的图像倾斜变形和局部失焦的问题,具有先进性和有效性。
搜索关键词: 基于 平整 表面 附着 痕迹 散射 扫描 成像 方法
【主权项】:
1.一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法,其特征在于,所述方法是以倾斜视角做线扫描成像,具体包括如下步骤:S1:在附着痕迹的平整表面上架设成像设备;S2:设置成像设备的高度和扫描范围,以及成像视角和照明角度;S3:成像设备在扫描范围内逐步移动,每移动一步,采集一行或相邻几行图像,直至完成整个扫描范围的图像采集;S4:将所有采集的图像行按采集时间的先后顺序依次拼接得到完整图像。
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