[发明专利]调节器和包括该调节器的化学机械抛光设备有效
| 申请号： | 201910079571.1 | 申请日： | 2019-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN110605657B | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 李龙熙;韩昇澈;李羲宽;徐钟辉 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 田野;尹淑梅 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了调节器和包括该调节器的化学机械抛光(CMP)设备。所述化学机械抛光设备(CMP)的调节器包括：调节部件，对抛光垫进行抛光；臂，使调节部件旋转；以及柔性连接器，使调节部件与臂连接，柔性连接器是可移动的以使调节部件关于臂相对移动。 | ||
| 搜索关键词： | 调节器 包括 化学 机械抛光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光设备的调节器，所述调节器包括：/n调节部件，用于对抛光垫进行抛光；/n臂，用于使调节部件旋转；以及/n柔性连接器，使调节部件与臂连接，柔性连接器是可移动的以使调节部件关于臂相对移动。/n
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