[发明专利]光投射方法和装置有效
| 申请号： | 201910073208.9 | 申请日： | 2019-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN110727049B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 吕方璐 | 申请（专利权）人： | 深圳市光鉴科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124;G02B6/34 |
| 代理公司： | 上海东信专利商标事务所(普通合伙) 31228 | 代理人： | 杨丹莉;李丹 |
| 地址： | 200135 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种包括第一表面和第二表面的波导器件。所述第二表面包括第一光栅结构。所述波导器件构造为引导耦合入光束在第一表面和第二表面之间进行全内反射。所述第一光栅结构构造为干扰全内反射以使至少部分耦合入光束自第一表面耦合出波导器件，从波导器件耦合出的这部分耦合入光束形成耦合出光束。所述波导器件进一步包括反射层，所述反射层设在第二表面上并覆盖第一光栅结构。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种波导器件，包括第一表面和第二表面，其中：/n所述第二表面包括第一光栅结构；/n所述波导器件构造为引导耦合入光束在第一表面和第二表面之间进行全内反射；/n所述第一光栅结构构造为干扰全内反射以使至少部分耦合入光束自第一表面耦合出波导器件，从波导器件耦合出的这部分耦合入光束形成耦合出光束；及/n所述波导器件进一步包括反射层，所述反射层设在第二表面上并覆盖第一光栅结构。/n
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