[发明专利]沉积设备和沉积方法

摘要

沉积设备包括腔；承受器，其在腔中支撑基板；上电极，其面向承受器；淋喷头，其在上电极和承受器之间限定气体入口空间；金属源储存器，其储存供应至腔中的金属源；汽化器，其使金属源汽化；第一气体源，其供应第一气体，以使金属源朝着汽化器移动；第二气体源，其供应第二气体，以使汽化器中的金属源朝着腔移动；第三气体源，其连接至腔，以将第三气体供应至承受器和上电极之间限定的反应空间中，使得第三气体与金属源反应；和第四气体源，其连接至腔，以供应用于清洁腔内部的第四气体。本申请还提供了一种沉积方法。

主权项

1.一种沉积设备，包括：腔；承受器，其在所述腔中支撑基板；上电极，其面向所述承受器；淋喷头，其在所述上电极和所述承受器之间限定气体入口空间；金属源储存器，其储存供应至所述腔的金属源；汽化器，其使所述金属源汽化；第一气体源，其连接至所述金属源储存器，以供应用于使所述金属源朝着所述汽化器移动的第一气体；第二气体源，其连接至所述汽化器，以供应用于使所述汽化器中的所述金属源朝着所述腔移动的第二气体；第三气体源，其连接至所述腔，以将第三气体供应至所述承受器和所述上电极之间限定的反应空间中，使得所述第三气体与所述金属源反应；和第四气体源，其连接至所述腔，以供应用于清洁所述腔的内部的第四气体。