[发明专利]一种狭缝喷嘴在审
申请号: | 201910067400.7 | 申请日: | 2019-01-24 |
公开(公告)号: | CN109530164A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 杨鑫 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05B15/50 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及涂胶技术领域,尤其涉及一种狭缝喷嘴。解决了相关技术中PI胶粘性较大容易发生表面吸附而在溶剂蒸发干后难以去除,从而影响涂覆效果的问题。本发明实施例提供一种狭缝喷嘴,包括出胶口,所述出胶口两侧的侧壁上分别形成有防粘附涂层,所述防粘附涂层形成在所述出胶口两侧的侧壁上距离所述出胶口第一预设距离的位置到距离所述出胶口第二预设距离的位置所限定的区域,其中,所述第一预设距离为2‑3mm,所述第二预设距离大于所述第一预设距离小于或等于所述侧壁远离所述出胶口的一侧到所述出胶口的距离。本发明实施例用于防止胶液在侧壁上发生粘附。 | ||
搜索关键词: | 出胶口 预设距离 侧壁 狭缝喷嘴 防粘附 表面吸附 溶剂蒸发 涂层形成 胶粘性 胶液 去除 涂覆 涂胶 粘附 | ||
【主权项】:
1.一种狭缝喷嘴,其特征在于,包括出胶口,所述出胶口两侧的侧壁上分别形成有防粘附涂层,所述防粘附涂层形成在所述出胶口两侧的侧壁上距离所述出胶口第一预设距离的位置到距离所述出胶口第二预设距离的位置所限定的区域,其中,所述第一预设距离为2‑3mm,所述第二预设距离大于所述第一预设距离小于或等于所述侧壁远离所述出胶口的一侧到所述出胶口的距离。
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