[发明专利]功能层墨水、光电器件功能层的制备方法及光电器件有效
| 申请号： | 201910064967.9 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN109749507B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 顾辛艳 | 申请（专利权）人： | 纳晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09D11/03 | 分类号： | C09D11/03;C09D11/033;H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 韩建伟;梁文惠 |
| 地址： | 310052 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种功能层墨水、光电器件功能层的制备方法及光电器件。该功能层墨水包括功能材料、主体溶剂和铺展调节剂，铺展调节剂的熔点大于等于15℃，功能材料在铺展调节剂中的溶解度大于等于0.2g。由于铺展调节剂的熔点大于等于15℃，功能层墨水中的主体溶剂随着工艺进行而挥发，在挥发过程中体系温度降低或者体系中的主体溶剂量不足以维持铺展调节剂继续以液态存在，使得剩余的铺展调节剂凝结，有效控制打印液滴的铺展直径，当光电器件是发光器件时，可以防止相邻子像素内墨水互混造成混色；同时溶解在其中的功能材料受到凝固的铺展调节剂的阻碍，因而无法受表面张力梯度差而向边沿迁移，从而避免了咖啡环的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 功能 墨水 光电 器件 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种功能层墨水，其特征在于，包括功能材料、主体溶剂和铺展调节剂，所述铺展调节剂的熔点大于等于15℃，所述功能材料在所述铺展调节剂中的溶解度大于等于0.2g。
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