[发明专利]镧化合物以及使用该镧化合物形成薄膜和集成电路器件的方法在审
| 申请号: | 201910053529.2 | 申请日: | 2019-01-21 |
| 公开(公告)号: | CN110272438A | 公开(公告)日: | 2019-09-24 |
| 发明(设计)人: | 朴圭熙;金润洙;林载顺;曹仑廷;原野一树;佐藤晴义;白鸟翼;山田直树 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社;株式会社ADEKA |
| 主分类号: | C07F5/00 | 分类号: | C07F5/00;C07F7/10;H01L21/288;H01L21/336;C23C16/455;C23C16/30;C23C16/40 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 贺卫国 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: |
公开了镧化合物、合成薄膜的方法以及制造集成电路器件的方法,所述化合物由以下式1表示,其中,在式1中,R1是氢原子或者C1‑C4直链或支链烷基,R2和R3各自独立地是氢原子或者C1‑C5直链或支链烷基,R2和R3中的至少一个是C3‑C5支链烷基,并且R4是氢原子或者C1‑C4直链或支链烷基。[式1] |
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| 搜索关键词: | 烷基 直链或支链 镧化合物 氢原子 集成电路器件 合成薄膜 支链烷基 薄膜 制造 | ||
【主权项】:
1.一种由以下式1表示的镧化合物,[式1]
其中,在式1中,R1是氢原子或者C1‑C4直链或支链烷基,R2和R3各自独立地是氢原子或者C1‑C5直链或支链烷基,R2和R3中的至少一个是C3‑C5支链烷基,并且R4是氢原子或者C1‑C4直链或支链烷基。
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