[发明专利]一种结合时差成像和频差成像的电阻抗成像方法有效
| 申请号： | 201910049961.4 | 申请日： | 2019-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN109758149B | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 杨琳;张学思;代萌;付峰;董秀珍;文治洪;王航 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军第四军医大学 |
| 主分类号： | A61B5/0536 | 分类号： | A61B5/0536 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 徐文权 |
| 地址： | 710032 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种结合时差成像和频差成像的电阻抗成像方法，该方法通过采用两个不同时刻同一频率处的两组测量数据进行时差成像，获得成像目标体积变化而导致的成像目标(位于成像区域内)电阻抗变化，然后通过采用同一时刻不同频率处的两组测量数据进行频差成像，获得成像目标电导率变化而导致的成像目标(位于成像区域内)电阻抗变化，最终结合时差重构结果和频差重构结果计算在某一时刻的成像目标体积(三维成像)或者成像目标面积(二维成像)。本发明利用时差成像和频差成像的各自特点，能够计算成像目标(位于成像区域内)在某一时刻的体积(或面积)。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结合 时差 成像 阻抗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种结合时差成像和频差成像的电阻抗成像方法，其特征在于，首先，通过采用两个不同时刻同一频率处的两组测量数据进行时差成像，获得成像目标体积变化与成像目标电阻抗变化之间的对应关系，即得到时差重构结果；然后，通过采用同一时刻不同频率处的两组测量数据进行频差成像，获得成像目标电导率变化与成像目标电阻抗变化之间的关系，即频差重构结果；最终，结合时差重构结果和频差重构结果计算在某一时刻的成像目标体积或面积。
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