[发明专利]一种具有垂直孔道结构的二维MXene膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910041055.X 申请日: 2019-01-16
公开(公告)号: CN109706507B 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 魏嫣莹;邓俊杰;王海辉;李理波;卢纵 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C25D13/02 分类号: C25D13/02
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 陈智英
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于MXene膜的技术领域,公开了一种具有垂直孔道结构的二维MXene膜及其制备方法。方法:(1)将MAX粉末在盐酸与氟化锂的作用下进行刻蚀,离心,洗涤,干燥,超声分散,获得MXene纳米片溶液;(2)将MXene纳米片溶液进行电泳沉积,取出,进行冷冻处理,干燥,获得具有垂直孔道结构的MXene膜;电泳沉积的条件:电压为1‑36V,时间为10s‑30min;所述冷冻处理的温度为‑196℃~‑100℃。本发明的方法简单,绿色环保,所制备的膜为具有垂直孔道结构,能够加快分子的穿膜速率;本发明的膜在储能、催化、光电材料、生物药物、电磁屏蔽、吸波材料等领域具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 具有 垂直 孔道 结构 二维 mxene 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有垂直孔道结构的MXene膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将MAX粉末在盐酸与氟化锂的作用下进行刻蚀,离心,洗涤,干燥,超声分散,获得MXene纳米片溶液;(2)将MXene纳米片溶液进行电泳沉积,取出,进行冷冻处理,干燥,获得具有垂直孔道结构的MXene膜;步骤(2)中所述电泳沉积的条件:电压为1‑36V,时间为10s‑30min;步骤(2)中所述冷冻处理的温度为‑196℃~‑100℃,冷冻处理的时间为20s‑8min。
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