[发明专利]电磁波屏蔽膜在审
| 申请号： | 201910020692.9 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN110177448A | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 梅村滋和 | 申请（专利权）人： | 拓自达电线株式会社 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人： | 韩景漫;郭扬 |
| 地址： | 日本大阪府东*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能实现转移膜轻松剥离的电磁波屏蔽膜。本发明的电磁波屏蔽膜包括绝缘保护层（112），设在绝缘保护层（112）的表面的转移膜（115），设在绝缘保护层（112）的与转移膜（115）侧相反一侧的导电性胶粘剂层（111）。转移膜（115）的绝缘保护层（112）侧的面的最大谷深（Sv）为1μm以上、6μm以下，最大高度（Sz）为2μm以上、10μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 绝缘保护层 转移膜 电磁波屏蔽膜 导电性胶粘剂层 最大谷深 剥离 | ||
【主权项】：
1.一种电磁波屏蔽膜，所述电磁波屏蔽膜包括：绝缘保护层；设在所述绝缘保护层的表面的转移膜；设在所述绝缘保护层的与所述转移膜侧相反一侧的导电性胶粘剂层；其中，所述转移膜的所述绝缘保护层侧的面的最大谷深为1μm以上、6μm以下，最大高度为2μm以上、10μm以下。
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