[发明专利]非线性光学晶体的钝化有效
| 申请号： | 201910013932.2 | 申请日： | 2014-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN109898140B | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 弗拉基米尔·德里宾斯基;勇-霍·亚历克斯·庄 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;C30B33/02;C30B29/22 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及非线性光学晶体的钝化。供在检查工具中使用的非线性光学晶体的钝化包含：在存在氟、氟化物离子及含氟化物化合物中的至少一者的情况下生长非线性光学晶体；机械地制备所述非线性光学晶体；对所述非线性光学晶体执行退火过程；及将所述非线性光学晶体暴露于含氢或含氘钝化气体。 | ||
| 搜索关键词： | 非线性 光学 晶体 钝化 | ||
【主权项】：
1.一种用于钝化非线性光学NLO晶体的晶体缺陷的方法，其包括：从含有氟化锂或氟化铯中的至少一者的熔体中生长基于硼酸盐的非线性光学晶体，其中所述基于硼酸盐的非线性光学晶体包括硼酸铯CBO或硼酸铯锂CLBO中的至少一者；及用钝化气体钝化所述基于硼酸盐的非线性光学晶体，其中所述钝化气体包括低氧气体，所述低氧气体包含与氢、氘、含氢化合物或含氘化合物中的至少一者混合的一或多种惰性气体。
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