[发明专利]高折射率材料上的类布拉格光栅有效
| 申请号： | 201880094745.5 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN112313547B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | M·E·科尔伯恩;N·R·莫汗蒂 | 申请（专利权）人： | 元平台技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/126 | 分类号： | G02B5/126;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于制造倾斜结构的技术。在一个实施例中，一种用于在材料层上制造倾斜结构的方法包括：在材料层上形成掩模层；以及使用离子束和掩模层，以大于零的倾斜角，将离子注入到材料层的多个区域中。相对于材料层的表面法线测量倾斜角。将离子注入到材料层的多个区域中改变了材料层的多个区域的折射率或蚀刻速率。在一些实施例中，方法还包括：使用蚀刻剂来湿法蚀刻材料层，以去除材料层的多个区域中的材料。在一些实施例中，方法包括：通过在进料气体中使用反应性蚀刻剂的干法蚀刻过程，与注入同时或在注入后蚀刻改性的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 材料 布拉格 光栅 | ||
【主权项】：
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