[发明专利]确定衬底栅格的测量设备和方法在审
| 申请号： | 201880088262.4 | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111656282A | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | F·G·C·比基恩;E·M·赫尔斯埃博;H·J·L·梅根斯;R·J·索哈;张幼平 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 闫红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种确定衬底栅格的测量设备(10)和方法，衬底栅格描述了光刻设备(LA)中曝光衬底(12)之前衬底(12)的变形，光刻设备(LA)配置成在衬底(12)上制造一个或多个特征。获取在衬底(12)上多个第一特征和/或多个第二特征的位置数据。获取所述多个第一特征和/或所述多个第二特征中的至少一个特征的不对称性数据。基于位置数据和不对称性数据确定衬底栅格。将衬底栅格和不对称性数据传递到所述光刻设备LA，用于控制曝光过程的至少一部分以在衬底(12)上制造一个或多个特征。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 衬底 栅格 测量 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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