[发明专利]成像质谱分析用数据处理装置在审
| 申请号： | 201880086132.7 | 申请日： | 2018-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN111587374A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 中木村有里子 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在通过成像质谱分析找出表示与光学显微图像等参照图像相似的分布的化合物时，使其搜索的效率和准确性提高。在本发明所涉及的使用了数据处理装置的成像质谱分析装置中，回归分析执行部(16)使用每个测定点处的质谱数据和参照图像数据执行PLS，按每个m/z值求出反映了分布的相似性的回归系数。m/z值搜索部(17)按回归系数从大到小的顺序选出m/z值，但如果在将整个m/z测定范围按规定宽度划分出的各m/z搜索范围中已经选出了一个m/z值，则从搜索的对象中排除包含该m/z值的m/z搜索范围。由于在质谱上源自某个化合物的峰及其同位素峰大致进入一个m/z搜索范围内，因此根据上述处理，能够避免源自某个化合物的离子的m/z值和源自其同位素的离子的m/z值被重复地选为m/z候选。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 谱分析 数据处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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