[发明专利]基于衍射的叠加散射测量在审
| 申请号： | 201880085028.6 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN111566564A | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | Y·卢巴舍夫斯基;Y·帕斯卡维尔;V·莱温斯基;A·玛纳森 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在制造过程中使用的监测叠加的方法，其中连续层经逐层沉积以形成堆叠。每一层可包含例如衍射光栅的周期性结构以与另一层中的周期性结构对准。可照亮所述堆叠周期性结构，以从所述周期性结构形成+及‑第一级衍射图案。可捕获包含+及‑衍射图案的所述堆叠周期性结构的图像。可比较所述+及‑衍射图案，以计算连续层之间的所述叠加。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 衍射 叠加 散射 测量 | ||
【主权项】：
暂无信息
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