[发明专利]光刻方法和设备在审
| 申请号： | 201880082014.9 | 申请日： | 2018-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN111492316A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | P·A·克洛斯伊维奇;B·V·V·雷迪;S·U·H·里兹维;J·R·唐斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种确定用于光刻设备的投影系统的配置的方法是具有罚函数的二次规划问题的实现。该方法包括：接收投影系统的光学性质对投影系统的多个操纵器的配置的依赖性；接收与所述操纵器的物理约束相对应的多个约束；查找操纵器的初始配置；以及迭代地查找操纵器的输出配置。迭代包括重复以下步骤：确定所述多个约束中被违反的一组约束；确定所述操纵器的更新后的配置，所述操纵器的所述更新后的配置依赖于所述多个约束中被违反的所述一组约束和惩罚强度；和增加所述惩罚强度。重复这些步骤，直到满足收敛判据为止。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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