[发明专利]多孔石墨表膜有效
| 申请号： | 201880075083.7 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN111373328B | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 马克西姆·A·纳萨勒维奇;E·库尔干诺娃;A·W·诺滕博姆;玛丽亚·皮特;彼得-詹·范兹沃勒;D·F·弗莱斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种制造用于光刻设备的表膜的方法，所述方法包括在三维模板中生长所述表膜，以及根据该方法制造的表膜。还公开了根据所述方法制造的表膜在EUV光刻设备中的用途以及三维模板在制造表膜中的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 多孔 石墨 | ||
【主权项】：
暂无信息
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