[发明专利]化学镀镍－磷－钴浴及化学镀镍－磷－钴膜在审
| 申请号： | 201880071737.9 | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN111295466A | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 佐藤雅亮;黑坂成吾 | 申请（专利权）人： | 上村工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C18/50 | 分类号： | C23C18/50;H05K3/18 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 孙明;龚敏 |
| 地址： | 日本国大阪府大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 化学镀镍－磷－钴浴含有水溶性镍盐、次磷酸盐、含钴化合物以及重金属化合物，还含有选自由乙炔化合物、碘化物离子源或碘酸根离子源、以及含有一个以上硝基的含硝基芳香族化合物所组成的组中的至少一种。乙炔化合物的浓度为10～120mg/L，碘化物离子源或碘酸根离子源的浓度为10～4000mg/L，含硝基芳香族化合物的浓度为0.1～5000mg/L。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 钴膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
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