[发明专利]曝光装置和物品制造方法在审
申请号: | 201880069270.4 | 申请日: | 2018-10-16 |
公开(公告)号: | CN111356955A | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 河野道生 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B5/00;G02B7/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 宋岩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种曝光装置,包括:投影光学系统,该投影光学系统将曝光光投影到基板上以在基板上形成图案;遮光构件,包括允许由基板反射的光通过的开口;以及光接收元件,接收在由基板反射之后通过开口的光束,其中,根据由光接收元件接收到的光量来执行改变散焦量的聚焦控制。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 物品 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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