[发明专利]清除工具、光刻装置以及器件制造方法在审
| 申请号： | 201880054655.3 | 申请日： | 2018-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN110998456A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | Y-S·黄;A·B·热因克;B·L·W·M·范德文;V·沃洛尼纳 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;李兴斌 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 描述了一种清除工具，该清除工具被配置成使用激光束从物体的目标区域至少部分地去除掩模层。清除工具包括阻挡构件，该阻挡构件被配置成布置在包含目标区域的物体的表面上方，并且被配置成将液体包含在紧邻目标区域或围绕目标区域的空间中。 | ||
| 搜索关键词： | 清除 工具 光刻 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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