[发明专利]用于极紫外光刻的聚合物刷在审
| 申请号： | 201880054272.6 | 申请日： | 2018-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN110997734A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | D·高尔德法尔博;M·克劳德;A·沃拉 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | C08F4/00 | 分类号： | C08F4/00;C08L83/00;C08G83/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 邹丹 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种具有多个重复单元的聚合物刷，其中重复单元的一些部分具有一个或多个接枝基团，一些部分具有一个或多个界面调节基团。接枝基团是基于无机基底的特性选择的，界面调节基团是基于将与该基团相互作用的光致抗蚀剂的特性选择的。还公开了一种光刻图案化工艺和包括至少一个通过该光刻图案化工艺形成的集成电路的电子设备。该工艺包括提供无机基底，将所公开的聚合物刷沉积到该无机基底上，以及将光致抗蚀剂沉积到该聚合物刷上。该工艺还包括用具有图案的光掩模掩蔽光致抗蚀剂，并对掩蔽的光致抗蚀剂施加能量以形成蚀刻掩模。然后蚀刻无机基底。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 紫外 光刻 聚合物 | ||
【主权项】：
暂无信息
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