[发明专利]光取向用曝光装置在审
| 申请号： | 201880051589.4 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN110998450A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 吉田祐治;池田聪;新井敏成;三宅敢;片山崇;平井明 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术;夏普株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种用于体现预倾角而进行倾斜曝光的光取向用曝光装置，其能够使用廉价的散射光源即体积光源，并且以紧凑的方式获得均匀的照度分布。通过对被照射面向一个方向进行扫描曝光来进行光取向处理的光取向用曝光装置(1)，其具备：光源(2)，朝向被照射面(10S)射出散射光；光学滤波器(3)，在从光源(2)射出的光中选择性地射出紫外线；及照射角度限制部件(4)，在从光学滤波器(3)射出的光中选择性地射出相对于扫描方向倾斜照射的光，在照射角度限制部件(4)中，使平板状的光方向限制板(40)相对于被照射面(10S)以一定角度倾斜并沿扫描方向按设定间隔平行排列多个。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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