[发明专利]组合物、光学薄膜、偏振片、显示装置及组合物的制造方法有效

专利信息
申请号: 201880043005.9 申请日: 2018-06-08
公开(公告)号: CN110799590B 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 深川玲子;田村显夫;大谷健人 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C08L33/16 分类号: C08L33/16;C08F220/22;G02B5/30
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种组合物、光学薄膜、偏振片、显示装置及组合物的制造方法,组合物包含含氟共聚物,所述含氟共聚物具有来自由通式(I)表示的含氟单体的重复单元及来自具有至少2个聚合性基团的单体的重复单元,所述组合物中,所述来自具有至少2个聚合性基团的单体的重复单元的含量相对于含氟共聚物的总质量为3质量%以上,含氟共聚物的含量相对于组合物中的总固体成分为15质量%以上。R1表示氢原子或碳原子数1~20的烷基,R2表示具有至少一个氟原子的基团,L1表示由选自由‑O‑、‑(C=O)O‑、‑O(C=O)‑、‑(C=O)NH‑、‑NH(C=O)‑、也可以具有取代基的2价的芳香族基团、也可以具有取代基的2价的脂肪族链状基、及也可以具有取代基的2价的脂肪族环状基组成的组中的至少一个构成的2价的连结基团。
搜索关键词: 组合 光学薄膜 偏振 显示装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种组合物,其包含含氟共聚物,所述含氟共聚物具有来自由下述通式(I)表示的含氟单体的重复单元及来自具有至少2个聚合性基团的单体的重复单元,所述组合物中,所述来自具有至少2个聚合性基团的单体的重复单元的含量相对于所述含氟共聚物的总质量为3质量%以上,所述含氟共聚物的含量相对于所述组合物中的总固体成分为15质量%以上,/n
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