[发明专利]量测设备有效
| 申请号： | 201880036683.2 | 申请日： | 2018-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN110709778B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 乔安科·拉文斯卑尔根;N·潘迪;周子理;A·E·A·科伦;塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;B·O·夫艾格金格奥尔;S·G·J·马西森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;G01N21/95;G01B11/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种量测设备，其测量在衬底上形成的结构以确定感兴趣的参数。所述设备包括光学系统，所述光学系统配置成将辐射聚焦到所述结构上并将从所述结构反射之后的辐射引导到检测器上，其中：所述光学系统配置成使得所述检测器检测由来自光瞳平面场分布中的至少两个不同点的辐射之间的干涉产生的辐射强度，其中所述干涉使得检测到的辐射强度的包含与感兴趣的参数有关的信息的分量相对于所述检测到的辐射强度的一个或更多个其它分量被增强。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 | ||
【主权项】：
1.一种量测设备，用于测量在衬底上形成的结构以确定感兴趣的参数，所述量测设备包括：/n光学系统，其配置成将辐射聚焦在所述结构上并将从所述结构反射之后的辐射引导到检测器上，其中：/n所述光学系统配置成使得所述检测器检测由来自在光瞳平面场分布中的至少两个不同点的辐射之间的干涉产生的辐射强度，其中所述干涉使得检测到的辐射强度的包含与所述感兴趣的参数有关的信息的分量相对于所述检测到的辐射强度的一个或更多个其它分量被增强。/n
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