[发明专利]光刻设备有效
| 申请号： | 201880036358.6 | 申请日： | 2018-05-01 |
| 公开（公告）号： | CN110678812B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | H·G·希梅尔;J·M·A·霍夫曼;M·兰詹;P·A·M·加塞林;A·L·C·勒鲁;M·尤塞菲莫格哈德丹;E·J·阿尔勒马克;D·V·P·汉斯乔特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：第一腔室，所述第一腔室包括投影系统，所述投影系统被配置为将图案化辐射束投影到衬底上；第二腔室，所述第二腔室包括衬底台，所述衬底台被构造成保持衬底；在所述第一腔室和所述第二腔室之间延伸的通道，所述通道被配置为接收清洗流体流，所述通道的周边由壁限定；和被配置为冷却所述通道的所述壁的冷却系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：/n第一腔室，所述第一腔室包括投影系统，所述投影系统被配置为将图案化辐射束投影到衬底上；/n第二腔室，所述第二腔室包括衬底台，所述衬底台被构造成保持衬底；/n在所述第一腔室和所述第二腔室之间延伸的通道，所述通道被配置为接收清洗流体的流，所述通道的周边由壁限定；和/n冷却系统，被配置为冷却所述通道的所述壁。/n
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