[发明专利]基于机器学习的辅助特征放置在审
| 申请号： | 201880034754.5 | 申请日： | 2018-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN110692017A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 苏静;邹毅;林晨希;曹宇;卢彦文;陈炳德;张权;S·H·L·巴伦;罗亚 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/70 | 分类号： | G03F1/70;G03F1/36;G03F7/20 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种方法，包括：获得设计布局的一部分(505)；基于所述部分或所述部分的特性(510)确定(520)辅助特征的特性(530)；和使用包括样本的训练数据(540)来训练(550)机器学习模型，所述样本的特征向量包括所述部分的特性(510)且所述样本的标签包括所述辅助特征的特性(530)。所述机器学习模型可以用于确定(560)设计布局的任何部分的辅助特征的特性，即使所述部分并不是所述训练数据的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助特征 样本 机器学习模型 设计布局 训练数据 特征向量 标签 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：/n获得设计布局的部分或所述部分的特性；和/n通过硬件计算机使用机器学习模型基于所述部分或所述部分的特性而获得用于所述部分的辅助特征的特性。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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